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http://www.100ppi.com  2021年02月23ri 14:12  广fa证券
生意社02月23ri讯

  2020年电chipian环节扩产规模约80GW,2021年扩产规模约100-120GW。根据wo们对电chipian厂商扩产shu据的微观统ji,yuji2020年电chipian环节已经落地的扩产规模约80GW,yuji在2021年落地的扩产规模约100-120GW。

  值得注意的是,由于电chipian制造厂商的扩产ji划落地yu电chipianshe备制造厂商的xin签订单之间存在shizhi,行业的扩产节奏yushe备厂商的xin签订单可能存在?n砦弧鼻榭觥T凇捌絡ia上wang”、碳中he等因素的qu动之下,行业未来的增长较为que定;而多种ji术并行的现jie段,由于ji术进bu的节奏he方xiangwu法ti前yuzhi,ji术ling先、布局全面的long头公司风蟴han闲。瑈egengyou可能xiang受到行业增长heji术进bu的hong利。

  shou先,wo们对ji术路线he对she备的影响做一个简单的总结。

  (1)PERC+:PERC+是在基础的PERC产线(下图zuo边蓝色色块)上增jia若干she备,已da到gai善电chi性能的目的,图中wo们以激光SE、光zai生(绿色色块)作为例子,对应的需要增jia激光掺杂she备、光注入/电注入she备。

  (2)TOPCon?e贾谢粕??槲猅OPCon在PERC基础产线上gai变或者增jia的工艺,可以最da化的利用现youPERC产线he工襷han?榛?郏?鰆ia的she备bao括LVCVD/PECVD、离子注入ji、tui火炉、ke蚀she备等,不同的ji术路线所对应的she

  备you所不同,前文已经jie绍过,此处不zai赘述,目前的she备投入约2.5亿/GW,PERC产线升级为TOPCon产线约8000万/GW,不同的工襷hang废呋醳ou些许区别。

  (3)HJT:HJT的生产工艺只yousibu,对应的she备bao括清洗制绒she备、非jing硅薄膜沉积she备(PECVD或者Cat-CVD)、TCO膜沉积(PVD或者CVD)、丝印yushao结she备等,目前对应she备投入约4.5亿/GW。

  值得注意的是,sui然某些工序/she备名称一样,但是shi际区别较da,例如PECVDshe备,PECVD全称为等离子体增强化xue气xiang沉积法(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition),shi际是一种钝化/镀膜方式,可以觤ei闯粱?煌?谋∧ぁT赑ERC中觤ei闯粱齋iNx薄膜yu钝化AlOx薄膜,在TOPCon中觤ei炊刍?趸?璞∧?u沉积本征多jing硅薄膜,在HJT中觤ei闯粱?莏ing硅薄膜,因为沉积的薄膜不同,she备的构cheng、镀膜速度、投入等存在巨da差别。

  yuji2021年光伏she备市场规模约234亿元,未来5年复he增长lv约24.04%。wo们通过对guo内/全球xin增zhuangji、产能利用lv、不同ji术路线的在xin增产能中的占比以及产线投入作出假she,得到2021-2025年的光伏she备市场规模为234/290/343/489/508亿元,复he增长lv约24.04%。

  (文zhang来源:广fa证券)

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